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求光刻胶的大神 已有9人参与
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我是买的SU-8光刻胶干膜,然后把它贴在铜基底上,做一个30μm、深宽比为3.3:1左右的凹槽,一个基底上开了12个凹槽,等间距的。 固化工艺是: 前烘92°,2min; 曝光40s(100μm厚); 后烘:65°,5min;95°,10min; 但是一直显影失败,显影的的时候那些槽壁会慢慢变弯曲成波浪形,最终全显影掉。试过不同的显影时间都是这个情况。现在不知道什么原因了,求大神帮忙分析分析。 本人和导师都是第一次接触这个完全不懂,出现问题也不知道找谁交流,只能上这来求助了 |
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wht0531
木虫 (正式写手)
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weilingdun
木虫 (著名写手)
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