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夸克duscbt新虫 (初入文坛)
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石英单晶上光刻，图案脱落:(
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石英单晶上光刻，图案脱落 描述：衬底 石英单晶 表面抛光过，粗糙度<0.5nm 先用丙酮，酒精，去离子水各超声半小时，然后在紫外-臭氧机下又清洗1小时 光刻胶：AZ1500 旋涂条件：1200rmp加速，5000rmp旋涂50秒 前烘：100摄氏度 90~180s 曝光时间：70s 显影：50s 定影：50s 氮气吹干 问题：发现图案脱落或者错位的概率很高  ，一共处理了7片石英，只有两片是好的，其余5片都有不同程度的图案脱落，错位或者断裂，有时定影完肉眼可见图案错位，然后氮气吹完图案完全散掉。求助各位大神是什么原因？石英单晶上能否使用光刻？ |
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yswyx 
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2楼2017-05-11 11:45:34
夸克duscbt
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3楼2017-05-11 16:28:29
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4楼2017-05-11 21:32:58
yswyx
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5楼2017-05-16 16:48:45
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6楼2017-05-16 17:05:54
Jacklee0601
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7楼2019-03-12 19:55:15
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