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石英单晶上光刻,图案脱落:(
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石英单晶上光刻,图案脱落![]() 描述:衬底 石英单晶 表面抛光过,粗糙度<0.5nm 先用丙酮,酒精,去离子水各超声半小时,然后在紫外-臭氧机下又清洗1小时 光刻胶:AZ1500 旋涂条件:1200rmp加速,5000rmp旋涂50秒 前烘:100摄氏度 90~180s 曝光时间:70s 显影:50s 定影:50s 氮气吹干 问题:发现图案脱落或者错位的概率很高 ,一共处理了7片石英,只有两片是好的,其余5片都有不同程度的图案脱落,错位或者断裂,有时定影完肉眼可见图案错位,然后氮气吹完图案完全散掉。求助各位大神是什么原因?石英单晶上能否使用光刻? |
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2楼2017-05-11 11:45:34
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4楼2017-05-11 21:32:58
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,一共处理了7片石英,只有两片是好的,其余5片都有不同程度的图案脱落,错位或者断裂,有时定影完肉眼可见图案错位,然后氮气吹完图案完全散掉。求助各位大神是什么原因?石英单晶上能否使用光刻?
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