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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 石英单晶上光刻，图案脱落:(
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夸克duscbt

新虫 (初入文坛)

[交流] 石英单晶上光刻，图案脱落:(

石英单晶上光刻，图案脱落

描述：衬底 石英单晶 表面抛光过，粗糙度<0.5nm
          先用丙酮，酒精，去离子水各超声半小时，然后在紫外-臭氧机下又清洗1小时

           光刻胶：AZ1500 旋涂条件：1200rmp加速，5000rmp旋涂50秒
           前烘：100摄氏度 90~180s
           曝光时间：70s
           显影：50s 定影：50s 氮气吹干

问题：发现图案脱落或者错位的概率很高，一共处理了7片石英，只有两片是好的，其余5片都有不同程度的图案脱落，错位或者断裂，有时定影完肉眼可见图案错位，然后氮气吹完图案完全散掉。求助各位大神是什么原因？石英单晶上能否使用光刻？
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1楼 2017-05-11 10:24:03
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夸克duscbt

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
5楼: Originally posted by yswyx at 2017-05-16 16:48:45
可以用旋涂，但是最好是熏蒸（真空烘箱或者专门治具），因为HMDS有一定的慢性毒性，所以很多人不愿意旋涂。我认为做好保护，在通风橱里面旋涂，偶尔做一次没啥，又不是天天做。...

多谢！
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6楼2017-05-16 17:05:54
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
★ ★ ★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
夸克duscbt: 金币+2 2017-05-16 16:32:28
你这个是漂胶了。你需要一瓶HMDS，用来熏蒸或者涂敷在石英衬底表面。可以找研材微纳买。
石英是氧化硅，亲水的，和有机高分子树脂材料的粘附性是很差的，一般做光刻都需要进行表面处理，HMDS就是最常用的试剂。
另外，就是在旋涂之前，用热板或者烘箱120°C以上烘烤至少10分钟，以保证片子上的水汽充分挥发，才能很好保证黏附，这样做就不一定需要HMDS了。
话说，卖你胶和片子的，不提供技术支持吗？
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2楼2017-05-11 11:45:34
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夸克duscbt

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2017-05-11 11:45:34
你这个是漂胶了。你需要一瓶HMDS，用来熏蒸或者涂敷在石英衬底表面。可以找研材微纳买。
石英是氧化硅，亲水的，和有机高分子树脂材料的粘附性是很差的，一般做光刻都需要进行表面处理，HMDS就是最常用的试剂。
另 ...

我是在学校的公共微加工平台上光刻，AZ胶的说明书上也没有写，晶片是找长晶体公司特殊定制抛光的所以也不提供光刻方面的技术支持。我准备先试试120烘烤。

我们微加工的主管老师也建议使用HMDS，所以我想请问HMDS应该怎样涂覆呢？可以用旋涂胶的办法吗？多谢大神！
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3楼2017-05-11 16:28:29
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hsdwlxhx

金虫 (正式写手)
2楼正解

发自小木虫IOS客户端
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BringLightonChip
4楼2017-05-11 21:32:58
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