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卡住kobe

新虫 (初入文坛)

[交流] 光刻已有8人参与

最近做光刻，底曝光之后已经在光刻胶上清晰看出掩膜板上的图案，但是跟显影液显影之后，什么都没有了，得到的基底看起来比较难看。
求大神指导步骤。
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1楼2017-04-13 20:33:59
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卡住kobe

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
8楼: Originally posted by 1351459515 at 2017-04-23 14:38:37
求问，你的问题解决没，我的和你一样，光刻胶是N244，显影液是NMD-3，2.38%，曝光后有清晰图像，一显影全没了

咱两用的一样啊，我们实验室环境不行，你的要注意掩膜板你需要的图形是需要正胶还是负胶，N244是负胶
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13楼2017-05-14 09:53:14
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温馨妹

新虫 (小有名气)
用的什么光刻胶

发自小木虫IOS客户端
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2楼2017-04-15 17:00:23
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daisy2956

新虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
曝光不足，或者过显了？
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3楼2017-04-17 10:55:17
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苏hzr

银虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
你的是正胶还是负胶，正胶就有可能是曝光过量或过显，负胶就是曝光不足，交联不充分
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多少事，从来急，天地转，光阴迫，一万年太久，只争朝夕
4楼2017-04-18 17:12:13
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