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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料物理 » 求助电子束蒸镀钼膜密度及电导率偏低的问题
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ok12315

木虫 (职业作家)

[求助] 求助电子束蒸镀钼膜密度及电导率偏低的问题 已有2人参与

最近小弟在使用电子束蒸镀法制备的钼（molybdenum，Mo）膜，使用基板分别为玻璃和单晶LaAlO3，发现所得薄膜密度均只能达到~8 g/cm3 （靶材为金属Mo密度为10.2 g/cm3），电导率也只有金属Mo的1/100。沉积过程中腔体压强控制在1E-4 Pa （无氧气），沉积电流为100-150 mA，电压 5 kV，沉积速度约为0.1 nm/s,基板温度大约100摄氏度。一开始我考虑是取样太急，高温下Mo被氧化了，但是等到基板降到室温后所得Mo膜性质仍然不好。XRD测试也显示样品中只有Mo，并没明显杂峰，我们实验室也用相同设备沉积Ti，Cr等金属，所得薄膜质量都不错，但一到Mo就出问题。现在实在是非常头疼，希望各位虫友能指点一下，不胜感激！
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1楼 2017-04-04 16:07:21
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ok12315

木虫 (职业作家)
送红花一朵
引用回帖:
8楼: Originally posted by 13015538501 at 2017-05-24 11:41:52
可能是钼靶材的问题！

感觉是仪器真空度不够…靶材密度和xrd都正常…现在换白金了，还不错

发自小木虫IOS客户端
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9楼2017-05-28 18:27:43
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纳米材料753

木虫之王 (文学泰斗)

光岳之巅

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
ok12315: 金币+8, ★★★很有帮助 2017-04-05 08:33:49
个人建议需要改变参数继续摸索 比如加大电流和电压 提高温度
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进取……永无止境！
2楼2017-04-04 16:27:41
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ok12315

木虫 (职业作家)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 纳米材料753 at 2017-04-04 16:27:41
个人建议需要改变参数继续摸索 比如加大电流和电压 提高温度

尝试过加大电流（200-300 mA），但是当时反应过于激烈，短时间内靶材会呈环状，中间被击穿出现一个坑，然后就没有沉积速率了，而且剧烈反应对石英膜厚计的损害也很大。。。
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3楼2017-04-05 08:33:29
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lvyiyilv

木虫 (职业作家)
问问厂家，让他们给你推荐个工艺。

发自小木虫Android客户端
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4楼2017-04-05 17:08:12
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