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ok12315木虫 (职业作家)
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求助电子束蒸镀钼膜密度及电导率偏低的问题 已有2人参与
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最近小弟在使用电子束蒸镀法制备的钼（molybdenum，Mo）膜，使用基板分别为玻璃和单晶LaAlO3，发现所得薄膜密度均只能达到~8 g/cm3 （靶材为金属Mo密度为10.2 g/cm3），电导率也只有金属Mo的1/100。沉积过程中腔体压强控制在1E-4 Pa （无氧气），沉积电流为100-150 mA，电压 5 kV，沉积速度约为0.1 nm/s,基板温度大约100摄氏度。一开始我考虑是取样太急，高温下Mo被氧化了，但是等到基板降到室温后所得Mo膜性质仍然不好。XRD测试也显示样品中只有Mo，并没明显杂峰，我们实验室也用相同设备沉积Ti，Cr等金属，所得薄膜质量都不错，但一到Mo就出问题。现在实在是非常头疼，希望各位虫友能指点一下，不胜感激！ |
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