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介孔二氧化硅的合成过程问题请教 已有1人参与
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大家好！本人是做介孔二氧化硅的菜鸟，在合成过程中遇到些问题，请各位大神指教!! 1.合成过程中说不能有气泡，是指加硅源时不能有气泡？？还是加碱升温至整个反应结束都不能有气泡？？反应温度是80度，升温过程中会有气泡产生的，等温度温度后气泡才消失，请问这有无影响？？ 2.离心后得到的沉淀是白色透明的，水洗 醇洗后才是白色沉淀。请问这是什么原因呢？0.7gCTAB+10ml无水乙醇+5.7mlTEOS，80度，PH是10. 3.看到有的文献会加乙酸钠，请问是为什么？ 本人真真菜鸟，请各位大神多多相助！！  |
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给你个配方你试一下，25.5ml水，15ml乙醇混合然后加入0.08gCTAB，25度下，700rpm搅拌，等CTAB分散好以后停止搅拌，先加入0.5ml的TEOS，然后继续搅拌接着加入0.5ml氨水！反应3小时，最后用水洗两次，8000转8分钟，粒径在700nm左右！ 发自小木虫IOS客户端 |
7楼2017-01-04 13:58:53
8楼2017-01-04 14:02:00
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