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reallife木虫 (著名写手)
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反应磁控溅射 - 求高人解答
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小弟初入反应磁控溅射，看了一些机理，也做了一些实验，有几个问题没弄清楚，借宝地请教各位前辈： 1）我做实验的机器中，靶是固定在上面，基板固定在下面。但是我看到有好多文章里恰好相反，他们的靶材固定在下面，基板在上面。 这两种方式的区别是什么，基板在上面镀制的薄膜质量更好吗？ 2）我用反应溅射制备氧化物薄膜，有元素掺杂。我发现每次其他人做完以后，我用之前的参数重做时，薄膜的成分和掺杂的比例总会与之前有偏差，有时这个偏差会比较大，严重影响薄膜的性质稳定。所以我想问，反应磁控溅射都是这么不稳定吗？这样的话如何实现工业化的生产呢？ 3）还是基于第二点，实在没有搞清楚，反应磁控溅射在工业化的应用上具体可以做些什么薄膜呢？工艺条件稳定吗？ 先谢谢各位前辈！ |
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lingling8326
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reallife: 金币+10, 谢谢您的解答，我想问下现在磁控溅射在军用和民用上主要的产品有哪些？ 2016-11-24 10:03:42
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reallife: 金币+10, 谢谢您的解答，我想问下现在磁控溅射在军用和民用上主要的产品有哪些？ 2016-11-24 10:03:42
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你好，靶在上或靶在下方只是设备设计时的区别，从溅射角度来看没有太大区别。专门镀膜厂做的时候一般一台设备针对一种或两种镀膜，不会太多。稳定性应该是不错的，镀膜种类太多可能存在交叉污染，另外可能是你的设备不稳定，真空性能欠佳等等 发自小木虫IOS客户端 |
3楼2016-11-24 00:27:27
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reallife: 金币+10, 那一般厂家做磁控溅射镀膜都是用非反应溅射做金属膜吗？或者一般我们用磁控溅射是做什么产品呢？ 2016-11-25 08:37:03
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reallife: 金币+10, 那一般厂家做磁控溅射镀膜都是用非反应溅射做金属膜吗？或者一般我们用磁控溅射是做什么产品呢？ 2016-11-25 08:37:03
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1）基板在上面薄膜相对质量更好， 减少靶面及shield上的累积的异物掉落。一般生产用都是基板在上面，或侧面； 2）反应溅射工艺参数不变的情况下，沉积还是很稳定的，可能还是设备没调好； 建议仔细看下每次的电压，电流，气体流量，气压，反射功率这些参数，是不是每次都是一样的； 3）工业生产其实不算太多，主要还是因为反应溅射镀膜速率慢，生产效率低，但是也还是有应用，比如Al靶，反应溅射镀氧化铝做钝化层； |
5楼2016-11-24 21:37:52
| 祝福 |
6楼2016-11-24 21:54:02
Brigitte
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reallife: 金币+5, 嗯，师兄做了一点硬膜，后来不做了。一般产业化的应用还可以做些什么呢？ 2016-11-25 08:38:50
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reallife: 金币+5, 嗯，师兄做了一点硬膜，后来不做了。一般产业化的应用还可以做些什么呢？ 2016-11-25 08:38:50
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据了解，在汽车发动机喷油嘴等部件上是需要高性能涂层的比如DLC,TiN,TiC,CrN等等。 发自小木虫IOS客户端 |
7楼2016-11-25 02:02:33
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