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木虫 (著名写手)

引用回帖:
10楼: Originally posted by liguojing at 2017-02-14 10:09:39
想问一下群主是怎样掺杂的?

通过共溅射。控制溅镀参数可以控制掺杂量
11楼2017-02-14 18:01:44
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征梦小子

银虫 (正式写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
引用回帖:
5楼: Originally posted by cz.87101 at 2016-11-24 21:37:52
1)基板在上面薄膜相对质量更好, 减少靶面及shield上的累积的异物掉落。一般生产用都是基板在上面,或侧面;
2)反应溅射工艺参数不变的情况下,沉积还是很稳定的,可能还是设备没调好;
    建议仔细看下每次的 ...

你好,想请问你一下,为什么Al反应溅射的时候,只能起辉没有沉积东西,用射频和直流脉冲两个都溅射过,那个参数的话,射频用的是100W,直流脉冲为80W,气氛比Ar:O2为2:1,Al靶为三寸的靶材。请问这是什么问题?
12楼2018-12-12 10:33:29
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