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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 成型与控制 » 反应磁控溅射 - 求高人解答
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reallife

木虫 (著名写手)
引用回帖:
10楼: Originally posted by liguojing at 2017-02-14 10:09:39
想问一下群主是怎样掺杂的？

通过共溅射。控制溅镀参数可以控制掺杂量
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11楼2017-02-14 18:01:44
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征梦小子

银虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
引用回帖:
5楼: Originally posted by cz.87101 at 2016-11-24 21:37:52
1）基板在上面薄膜相对质量更好， 减少靶面及shield上的累积的异物掉落。一般生产用都是基板在上面，或侧面；
2）反应溅射工艺参数不变的情况下，沉积还是很稳定的，可能还是设备没调好；
    建议仔细看下每次的 ...

你好，想请问你一下，为什么Al反应溅射的时候，只能起辉没有沉积东西，用射频和直流脉冲两个都溅射过，那个参数的话，射频用的是100W，直流脉冲为80W，气氛比Ar：O2为2：1，Al靶为三寸的靶材。请问这是什么问题？
赞一下 回复此楼
12楼2018-12-12 10:33:29
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