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光刻显影不干净什么原因？ 已有4人参与
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用的是AZ-5214E反转光刻胶，但是在显影的时候有胶残余，甚至一直在显影夜液中放两个小时，最后还是不干净。在PZT,PIMNT单晶上面甩的胶，表面不是很平整。改怎么改进实验？ @yswyx 发自小木虫Android客户端 |
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 薄膜材料和器件制备 |
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强哥哥哥2楼2016-10-19 15:49:17
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3楼2016-10-19 18:16:29
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4楼2016-10-19 22:31:37
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预烘用80s,反转烘3.5min,本来想预烘时间降低，但是降低的话掩模时候，片子直接顶起来粘在掩模版上了，我又担心是预烘时间过长最底部的胶预烘时就变性了。有没有什么好的建议？ 发自小木虫Android客户端 |
5楼2016-10-19 22:49:14
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6楼2016-10-20 09:47:58
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7楼2016-10-20 10:40:04
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我们用过这种胶，不过根据经验判断，1你应该用的是有机物显影液而非氢氧化钠之类的溶液；2你的显影容器如果是塑料或聚四氟之类材料的话，显影有残渣的现象会很明显；3，浸泡式显影比喷淋式显影，残渣现象更为明显 发自小木虫Android客户端 |
8楼2016-10-20 20:40:26
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黏住了说明你用的是厚胶，而且转速太低，导致胶厚度太大，这一步又会影响到最后的曝光，因为厚度增加，曝光的时常也需要增加！不是显影液的问题，显影液10秒钟就可以解决问题！ 发自小木虫Android客户端 |
9楼2016-10-21 14:46:46
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