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低调小弟

银虫 (正式写手)

屌丝

[求助] 电镀Ni阻抗谱 已有1人参与

我的实验条件:IM6eX电化学工作站,工作电极0.5mm铂丝,对电极0.5mm铂丝,参比电极饱和甘汞,做出的阻抗谱低频散点很严重,中文有的硕士论文里也有很多散点,可是外文里的阻抗谱却没有散点(他们用的电极是旋转圆盘和玻碳电极),我做的时候只要施加负偏压,低频散点就肯定出现,怎么解决啊。不过实验重复性倒是很好,测三次,三次的阻抗谱除了个别散点,都重合,有的甚至散点都重合,怎么解啊。
不加负偏压(工作电极是Q235钢,对电极是铂片),则图谱形式和外文文献里的图谱很像,这是怎么回事。
做电沉积行为的时候,必须要用玻碳电极吗?玻碳电极不就是为了重复性好的吗?还是有其他作用?
求前辈指点迷津。

电镀Ni阻抗谱
外文文献镀镍阻抗谱


电镀Ni阻抗谱-1
外文文献镀镍阻抗谱


电镀Ni阻抗谱-2
我做的未施加负偏压阻抗谱


电镀Ni阻抗谱-3
我做的施加负偏压阻抗谱
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低调小弟

银虫 (正式写手)

屌丝

还有一个小疑问,做电沉积行为,阻抗谱若不施加负偏压没有意义吧,这是相当于做镀液对电极的腐蚀吧,可有些论文里这么做了,我没搞清这有什么意义。
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2楼2016-07-24 10:04:08
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george_hai

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
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低调小弟(费姚永芬代发): 金币+10 2016-07-25 08:58:34
区别不在于你用钢片而别人用玻碳电极,而在于别人用的是旋转圆盘这个设施,这个一般的区别不小。阻抗谱要在近稳态下进行,施加了一个负偏压,难道不会造成体系的不断改变吗,高频区和低频区还是同样的状态吗?

» 本帖已获得的红花(最新10朵)

3楼2016-07-24 10:19:13
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低调小弟

银虫 (正式写手)

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引用回帖:
3楼: Originally posted by george_hai at 2016-07-24 10:19:13
区别不在于你用钢片而别人用玻碳电极,而在于别人用的是旋转圆盘这个设施,这个一般的区别不小。阻抗谱要在近稳态下进行,施加了一个负偏压,难道不会造成体系的不断改变吗,高频区和低频区还是同样的状态吗?

旋转圆盘是让电极表面形成层流,其实我也觉得这个是关键,实验室没配这个装置,有没有可以替代的呢。
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4楼2016-07-24 10:25:51
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引用回帖:
3楼: Originally posted by george_hai at 2016-07-24 10:19:13
区别不在于你用钢片而别人用玻碳电极,而在于别人用的是旋转圆盘这个设施,这个一般的区别不小。阻抗谱要在近稳态下进行,施加了一个负偏压,难道不会造成体系的不断改变吗,高频区和低频区还是同样的状态吗?

你看,铂丝和钢片做电极有什么不同呢。因为我本身在钢片上做镀层,研究电沉积行为用铂丝我觉得不合适。

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5楼2016-07-24 15:34:28
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