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[求助]
求助：如何去掉硅衬底上的非晶硅层，但是又不伤害到衬底硅 已有1人参与
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| 新人求助，我用CVD的方法在单晶硅衬底上长了一层大约60nm厚的掺杂非晶硅层，测试过后我想把这层非晶硅层去掉但是又不要伤到衬底硅，求大神相助用什么试剂能够实现呢？我用HF+HNO3的不同配比溶液试过，这个是可以去掉，但是反应速率太快不好控制，并且会把衬底硅也给腐蚀掉。本身这层非晶硅层就长的很薄，所以用HF+HNO3腐蚀的话，短时间（10s左右）的腐蚀会使得硅表面不均匀。求助..... |
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3楼2016-07-10 11:42:58
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