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guotao019新虫 (著名写手)
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[求助]
求助SEM测试结果该如何解释???
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求大神指点!!! 如图:材料本身是SiC上磁控溅射的金属,一共三层,第一层是Ti(100nm, 熔点1668℃),第二层是TaSi2(300nm,熔点2200℃),最顶层是Pt(200nm,熔点1768℃)。 磁控溅射完后表面SEM照片如“as-deposited.png”所示,看起来比较平整。 经过1000℃/3min的退火后表面情况如“annealed.png”所示,表面呈微米级的交错的棍棒状,还有纳米级的金属颗粒。受限于设备分辨率,照片不够清晰。 想问退火后的表面形成的原因,最好能推荐几篇类似的论文做理论支撑。 谢谢! annealed.png as-deposited.png@hwweven |
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薄膜制备与特性 |
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u200810983
禁虫 (小有名气)
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2楼2016-06-30 08:41:19
Yaopeng_li
金虫 (小有名气)
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3楼2023-06-07 07:01:03













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