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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 介孔二氧化硅XRD
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astrocery

新虫 (初入文坛)

[求助] 介孔二氧化硅XRD

小弟最近做介孔硅，CTAB在70℃水中搅拌30分钟（含有氢氧化钠），10秒一滴加入TEOS反应2小时，最后用乙醇浓盐酸除去CTAB。做XRD结果在2到2.5这里没有衍射峰，求大神帮帮我啊。

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1楼 2016-06-02 20:42:55
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sqzhao

铁杆木虫 (著名写手)
放上数据看一看
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既然选择了，便只顾风雨兼程！
2楼2016-06-03 14:10:00
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刘晓F

新虫 (小有名气)
我的做出来XRD也没有衍射峰
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3楼2016-08-31 16:47:51
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duxiaojianai

新虫 (初入文坛)
楼主，您好，我也在合成介孔二氧化硅，按照文献方法，但是粒径400nm，我想得到100nm一下的介孔硅，求指教！！
文献方法：将 0.1 g十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）溶于48 mL水中并加入3.5 mL 0.2 M NaOH，待溶液加热到85℃，剧烈搅拌1 h。随后，逐滴加入 0.5 mL的正硅酸乙酯（TEOS），混合溶液再搅拌 1 h。MSN 通过离心获得，用乙醇洗涤数遍后离心去除乙醇。MSN在HCl/甲醇中回流24 h以去除表面活性剂CTAB。最后，离心得到的MSN在60℃过夜真空干燥除去介孔中的溶剂。
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4楼2017-03-13 21:55:46
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