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用直流磁控溅射制备 Y2O3薄膜 放电怎么办？ 已有1人参与
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功率 120W 压强1.0pa 氩氧比 30：3 靶材 金属钇 先用射频预溅射 再用直流正式做实验 前30分钟左右正常起灰，电流0.34左右 ，之后放电的指示灯开始间歇性的闪烁，且电流开始增大，再后来放电指示灯一直亮，电源里嗡嗡的响声，电流增大到0.704，怕把电源用坏了，所以直接就关掉电源了！有谁遇到过这种情况吗？帮帮我吧 Ps：自从用直流方法后靶材表面就有一层黑色 |
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 薄膜制备与特性 |
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9楼2016-04-18 19:41:53
【答案】应助回帖
★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
学渣求上进: 金币+5, ★★★很有帮助 2016-04-16 21:54:05
感谢参与，应助指数 +1
学渣求上进: 金币+5, ★★★很有帮助 2016-04-16 21:54:05
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三个方面应该注意考虑： 1.氧气的流量尽可能的小，一定要找到靶材表面形成氧化物的临近点，找到金属态溅射模式和氧化物溅射模式转变点，从你说靶材表面已经发黑，说明氧气流量过量了。 2.注意靶材的冷却，足量的冷却水使得靶材温度降低，这样是氩离子轰击靶表面溅射，如果靶材表面温度过高，很容易和氧气反应，甚至因为表面形成氧化膜熔点高，内部金属熔点低而发生喷溅。甚至击穿氧化层形成打火。这就是人们用RF代替DC的原因。 3.可以考虑局域供气法，也就是氧气不要和氩气混合供入真空室，而是氧气供向基体附近参与反应，氩气通入靶材附近参与溅射，当然这在真空室中是会扩散的，但是毕竟会有一个气体浓度的梯度存在。 4.另外注意不要弧光放电，真空度有点低，具体情况具体分析。 |
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vincentwz2楼2016-04-14 16:53:13
nuaalizhong
木虫 (正式写手)
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3楼2016-04-15 17:02:19
4楼2016-04-16 19:43:33
