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meihaijuan新虫 (初入文坛)
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[交流]
磁控镀膜 靶材表面出现火花
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请教各位大神： 在磁控镀膜TiN的时候，设置参数有，真空度5*10-3 pa，工作气压0.8 pa，温度100℃，偏压100V，功率300W。 1、轰击前，氩气流量20 sccm，真空计显示0.14 pa，偏压800V，打开磁控电源，功率300W，将高阀关小，使气压 升高到1.0 pa以上才可以正常起辉镀膜，此时真空计显示读数为起辉前的两倍，即2 pa以上。所以一旦起辉后，迅速将高阀 开到最大，使压强降低到最小，但只能降到0.8 pa。 2、轰击结束后，偏压降到100V，氩气流量20 sccm，氮气流量2 sccm，真空计显示0.15 pa，此时将高阀关小，工作气压 必须调到2 pa以上才能正常起辉镀膜，此时真空计显示读数为起辉前的两倍，即4 pa以上。而起辉后，避免靶中毒，迅速将高阀 开到最大，使压强降低到最小，但只能降到0.8 pa。 3、在起辉后进行正常镀膜的过程中，发现真空计读数从0.8 pa到0.9 pa之间略微变化，靶材表面不断地有小颗粒的火星溢出来， 每个10分钟左右，磁控电源就断开了，这时又开始升高气压到2 pa以上才能起辉，然后迅速将气压调至最低0.8 pa，就这样来来回回 调整气压参数来镀膜。 4、备注：镀膜前靶材表面已用砂纸擦亮，氩气和氮气流量比，已经多次试验优化出来的镀膜参数。 请问这个不稳定的镀膜现象是什么原因导致的，又改如何解决，请各位高手多多指点，谢谢！ |
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 薄膜制备与特性 |
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濺射电源是用RF還是DC? 如果是DC, 靶表面氮化物多了就容易有火花. 若是使用RF, 可能是暗區(dark space)太大或太小. 或是阳極的沉积物多了. 要清一清. |
meihaijuan2楼2016-04-10 23:35:22
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