| 查看: 2130 | 回复: 11 | ||||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||||
meihaijuan新虫 (初入文坛)
|
[交流]
磁控镀膜 靶材表面出现火花
|
|||
|
请教各位大神： 在磁控镀膜TiN的时候，设置参数有，真空度5*10-3 pa，工作气压0.8 pa，温度100℃，偏压100V，功率300W。 1、轰击前，氩气流量20 sccm，真空计显示0.14 pa，偏压800V，打开磁控电源，功率300W，将高阀关小，使气压 升高到1.0 pa以上才可以正常起辉镀膜，此时真空计显示读数为起辉前的两倍，即2 pa以上。所以一旦起辉后，迅速将高阀 开到最大，使压强降低到最小，但只能降到0.8 pa。 2、轰击结束后，偏压降到100V，氩气流量20 sccm，氮气流量2 sccm，真空计显示0.15 pa，此时将高阀关小，工作气压 必须调到2 pa以上才能正常起辉镀膜，此时真空计显示读数为起辉前的两倍，即4 pa以上。而起辉后，避免靶中毒，迅速将高阀 开到最大，使压强降低到最小，但只能降到0.8 pa。 3、在起辉后进行正常镀膜的过程中，发现真空计读数从0.8 pa到0.9 pa之间略微变化，靶材表面不断地有小颗粒的火星溢出来， 每个10分钟左右，磁控电源就断开了，这时又开始升高气压到2 pa以上才能起辉，然后迅速将气压调至最低0.8 pa，就这样来来回回 调整气压参数来镀膜。 4、备注：镀膜前靶材表面已用砂纸擦亮，氩气和氮气流量比，已经多次试验优化出来的镀膜参数。 请问这个不稳定的镀膜现象是什么原因导致的，又改如何解决，请各位高手多多指点，谢谢！ |
回复此楼» 收录本帖的淘帖专辑推荐
 薄膜制备与特性 |
» 猜你喜欢
269求调剂
已经有6人回复
-
297求调剂
已经有20人回复
-
297求调剂
已经有28人回复
-
267求调剂
已经有5人回复
-
考研调剂
已经有6人回复
-
314求调剂
已经有9人回复
-
285求调剂
已经有7人回复
-
一志愿矿大，材料工程专硕314分，0856可调都可以
已经有10人回复
-
还有化工二轮调剂的学校吗
已经有31人回复
-
一志愿211 0703化学 346分求调剂
已经有15人回复
baiyulong_
木虫 (正式写手)
- 应助: 1 (幼儿园)
- 金币: 7238.4
- 红花: 2
- 帖子: 920
- 在线: 92.5小时
- 虫号: 3197818
- 注册: 2014-05-11
- 专业: 凝聚态物性 II ：电子结构
5楼2016-04-11 20:09:28
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
|
濺射电源是用RF還是DC? 如果是DC, 靶表面氮化物多了就容易有火花. 若是使用RF, 可能是暗區(dark space)太大或太小. 或是阳極的沉积物多了. 要清一清. |
» 本帖已获得的红花（最新10朵）
meihaijuan2楼2016-04-10 23:35:22
meihaijuan
新虫 (初入文坛)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 801.3
- 散金: 107
- 红花: 1
- 帖子: 23
- 在线: 68.8小时
- 虫号: 3994822
- 注册: 2015-07-25
- 专业: 金属功能材料
3楼2016-04-10 23:37:35
4楼2016-04-11 19:39:39
