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meihaijuan

新虫 (初入文坛)

[交流] 磁控镀膜 靶材表面出现火花

请教各位大神:
       在磁控镀膜TiN的时候,设置参数有,真空度5*10-3 pa,工作气压0.8 pa,温度100℃,偏压100V,功率300W。
       1、轰击前,氩气流量20 sccm,真空计显示0.14 pa,偏压800V,打开磁控电源,功率300W,将高阀关小,使气压
升高到1.0 pa以上才可以正常起辉镀膜,此时真空计显示读数为起辉前的两倍,即2 pa以上。所以一旦起辉后,迅速将高阀
开到最大,使压强降低到最小,但只能降到0.8 pa。
       2、轰击结束后,偏压降到100V,氩气流量20 sccm,氮气流量2 sccm,真空计显示0.15 pa,此时将高阀关小,工作气压
必须调到2 pa以上才能正常起辉镀膜,此时真空计显示读数为起辉前的两倍,即4 pa以上。而起辉后,避免靶中毒,迅速将高阀
开到最大,使压强降低到最小,但只能降到0.8 pa。
       3、在起辉后进行正常镀膜的过程中,发现真空计读数从0.8 pa到0.9 pa之间略微变化,靶材表面不断地有小颗粒的火星溢出来,
每个10分钟左右,磁控电源就断开了,这时又开始升高气压到2 pa以上才能起辉,然后迅速将气压调至最低0.8 pa,就这样来来回回
调整气压参数来镀膜。
       4、备注:镀膜前靶材表面已用砂纸擦亮,氩气和氮气流量比,已经多次试验优化出来的镀膜参数。
       请问这个不稳定的镀膜现象是什么原因导致的,又改如何解决,请各位高手多多指点,谢谢!
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薄膜制备与特性

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baiyulong_

木虫 (正式写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
我们也用磁控溅设,做F e靶才的侍候,一开电源就自动stop,也没有短路。怎么解决,

发自小木虫Android客户端
5楼2016-04-11 20:09:28
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查看全部 12 个回答

Eric钟

新虫 (初入文坛)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
濺射电源是用RF還是DC?
如果是DC, 靶表面氮化物多了就容易有火花.
若是使用RF, 可能是暗區(dark space)太大或太小. 或是阳極的沉积物多了. 要清一清.

» 本帖已获得的红花(最新10朵)

2楼2016-04-10 23:35:22
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meihaijuan

新虫 (初入文坛)

送红花一朵
引用回帖:
2楼: Originally posted by Eric钟 at 2016-04-10 23:35:22
濺射电源是用RF還是DC?
如果是DC, 靶表面氮化物多了就容易有火花.
若是使用RF, 可能是暗區(dark space)太大或太小. 或是阳極的沉积物多了. 要清一清.

谢谢,已解决

发自小木虫IOS客户端
3楼2016-04-10 23:37:35
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Eric钟

新虫 (初入文坛)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
引用回帖:
3楼: Originally posted by meihaijuan at 2016-04-10 23:37:35
谢谢,已解决
...

恭喜已解決问题.
具体造成火花的原因?
4楼2016-04-11 19:39:39
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