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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 磁性材料 » 磁控溅射直流溅射Ni靶
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天国之王

新虫 (小有名气)

[求助] 磁控溅射直流溅射Ni靶 已有2人参与

磁控溅射直流溅射Ni靶，拿出来后，很容易氧化，大家有什么好的建议吗？
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1楼 2016-03-28 15:39:11
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天国之王

新虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by cairnstw at 2016-03-31 14:03:04
如果说需要一直拿出来，可以放进腔体前抛光去氧化层，再镀膜前，先预溅射就可以了。

恩，我一般预溅射10min，不知道时间够不够去掉那层氧化层呢？
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5楼2016-04-15 11:50:24
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perry_ping

新虫 (职业作家)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
应该放在磁性靶，一直放在设备中保持真空不就行了。我们锁好的一个多月也没有氧化啊
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2楼2016-03-31 08:34:02
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cairnstw

新虫 (初入文坛)
如果说需要一直拿出来，可以放进腔体前抛光去氧化层，再镀膜前，先预溅射就可以了。

发自小木虫Android客户端
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3楼2016-03-31 14:03:04
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天国之王

新虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by perry_ping at 2016-03-31 08:34:02
应该放在磁性靶，一直放在设备中保持真空不就行了。我们锁好的一个多月也没有氧化啊

因为一台设备，经常其他同学要做其它靶，所以得拿出来！
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4楼2016-04-15 11:48:19
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