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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 硅片基底增加表面粗糙度
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jw329

新虫 (正式写手)

[求助] 硅片基底增加表面粗糙度 已有2人参与

最近在研究表面粗糙度和接触热阻的关系，需要使抛光后的硅片基底变得粗糙来获得不同情况下的热组值。

试过用湿法刻蚀硅片表面（制绒工艺），效果不是很好，感觉获得的表面粗糙度太大了，而且硅片边缘和中心刻蚀的程度也不一样。

跟老板讨论了一下，他建议我在抛光硅片的表面沉积颗粒来改变表面粗糙度，但我觉得比较麻烦。想试试干法刻蚀中的RIE和ICP，不知道是否比湿法更可控。

本人对微纳加工不是很懂，各位虫友是否知道其它经典简便的方法，希望不惜赐教，谢谢！
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1楼 2016-03-25 21:14:15
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djdj123321

铜虫 (初入文坛)
表面粗糙度与接触热阻的关系可有进展？

发自小木虫IOS客户端
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风往哪边吹，草就往哪边倒
6楼2017-02-23 18:36:25
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盟维科技

捐助贵宾 (小有名气)

专家

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与，应助指数 +1
jw329: 金币+2 2016-03-27 22:35:01
rie和icp可以试试，我觉得还是要看你想要什么结果，微纳加工的可以继续和我讨论
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2楼2016-03-26 14:22:15
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reninhat

铁杆木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
jw329: 金币+3 2016-03-27 22:35:04
用DRIE，底部会有绒毛状的硅晶生成
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3楼2016-03-26 16:06:52
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soma-sun

银虫 (正式写手)
表面制绒获得表面立方锥形貌，所以必然粗糙，不过可以调控表面腐蚀速度与程度。
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做一个安静的猫
4楼2016-04-11 19:50:11
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