| 查看: 1216 | 回复: 5 | |||||||||
[求助]
硅片基底增加表面粗糙度已有2人参与
|
|
最近在研究表面粗糙度和接触热阻的关系，需要使抛光后的硅片基底变得粗糙来获得不同情况下的热组值。 试过用湿法刻蚀硅片表面（制绒工艺），效果不是很好，感觉获得的表面粗糙度太大了，而且硅片边缘和中心刻蚀的程度也不一样。 跟老板讨论了一下，他建议我在抛光硅片的表面沉积颗粒来改变表面粗糙度，但我觉得比较麻烦。想试试干法刻蚀中的RIE和ICP，不知道是否比湿法更可控。 本人对微纳加工不是很懂，各位虫友是否知道其它经典简便的方法，希望不惜赐教，谢谢！ |
回复此楼
【答案】应助回帖
★ ★
感谢参与，应助指数 +1
jw329: 金币+2 2016-03-27 22:35:01
感谢参与，应助指数 +1
jw329: 金币+2 2016-03-27 22:35:01
reninhat
铁杆木虫 (正式写手)
- 应助: 80 (初中生)
- 金币: 6133.8
- 散金: 117
- 红花: 5
- 帖子: 332
- 在线: 428.4小时
- 虫号: 2238571
- 注册: 2013-01-13
- 专业: 半导体微纳机电器件与系统
【答案】应助回帖
★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
jw329: 金币+3 2016-03-27 22:35:04
感谢参与，应助指数 +1
jw329: 金币+3 2016-03-27 22:35:04
djdj123321
铜虫 (初入文坛)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 593.8
- 帖子: 21
- 在线: 60.9小时
- 虫号: 2702889
- 注册: 2013-10-07
- 性别: GG
- 专业: 传热传质学