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jw329

新虫 (正式写手)

[求助] 硅片基底增加表面粗糙度 已有2人参与

最近在研究表面粗糙度和接触热阻的关系,需要使抛光后的硅片基底变得粗糙来获得不同情况下的热组值。

试过用湿法刻蚀硅片表面(制绒工艺),效果不是很好,感觉获得的表面粗糙度太大了,而且硅片边缘和中心刻蚀的程度也不一样。

跟老板讨论了一下,他建议我在抛光硅片的表面沉积颗粒来改变表面粗糙度,但我觉得比较麻烦。想试试干法刻蚀中的RIE和ICP,不知道是否比湿法更可控。

本人对微纳加工不是很懂,各位虫友是否知道其它经典简便的方法,希望不惜赐教,谢谢!
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reninhat

铁杆木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
jw329: 金币+3 2016-03-27 22:35:04
用DRIE,底部会有绒毛状的硅晶生成
3楼2016-03-26 16:06:52
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盟维科技

捐助贵宾 (小有名气)

专家


【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与,应助指数 +1
jw329: 金币+2 2016-03-27 22:35:01
rie和icp可以试试,我觉得还是要看你想要什么结果,微纳加工的可以继续和我讨论
2楼2016-03-26 14:22:15
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soma-sun

银虫 (正式写手)

表面制绒获得表面立方锥形貌,所以必然粗糙,不过可以调控表面腐蚀速度与程度。
做一个安静的猫
4楼2016-04-11 19:50:11
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wjx513513

铜虫 (小有名气)

5楼2016-04-15 00:37:35
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