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seekingalex
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[求助]
请教,RIE刻蚀二氧化硅的刻蚀气体中He起什么作用?谢谢! 已有4人参与
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请教一下,RIE刻蚀二氧化硅的刻蚀气体中He起什么作用?变化有什么影响? 所用设备的标准工艺为:SF6/CHF3/He=5.5/32/150,RF=200W,Pressure=1850mTorr。 不吝赐教!~ |
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3楼2016-03-25 10:32:00
u200810983
禁虫 (小有名气)
感谢参与,应助指数 +1
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2楼2016-03-25 09:00:12
4楼2016-03-25 15:55:44
dorrnm
金虫 (小有名气)
- 应助: 35 (小学生)
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- 性别: GG
- 专业: 半导体电子器件
5楼2016-03-26 17:05:39











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