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seekingalex
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[求助]
请教，RIE刻蚀二氧化硅的刻蚀气体中He起什么作用？谢谢！ 已有4人参与
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请教一下，RIE刻蚀二氧化硅的刻蚀气体中He起什么作用？变化有什么影响？ 所用设备的标准工艺为：SF6/CHF3/He=5.5/32/150，RF=200W，Pressure=1850mTorr。 不吝赐教！~ |
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u200810983
禁虫 (小有名气)
感谢参与，应助指数 +1
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2楼2016-03-25 09:00:12
3楼2016-03-25 10:32:00
4楼2016-03-25 15:55:44
dorrnm
金虫 (小有名气)
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- 虫号: 2061367
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- 专业: 半导体电子器件
5楼2016-03-26 17:05:39