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求问AZ5214光刻胶在MA6光刻机曝光做负胶的工艺参数 已有1人参与
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| 要在MA6光刻机上做AZ5214，摸不出参数啊，有哪位同学知道AZ5214的做负胶的工艺参数吗？转速、前烘时间、曝光时间、后烘时间等等？？？在线等！急！ |
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2楼2016-03-23 09:57:20
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月牙儿的微笑: 金币-1, 屏蔽内容, 违规存档, 本版不允许留下联系方式 2016-04-26 13:41:11
月牙儿的微笑: 金币-1, 屏蔽内容, 违规存档, 本版不允许留下联系方式 2016-04-26 13:41:11
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3楼2016-03-23 09:58:04
willyion6688
木虫 (正式写手)
- 应助: 6 (幼儿园)
- 金币: 3274.4
- 散金: 110
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- 帖子: 700
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- 性别: GG
- 专业: 半导体晶体与薄膜材料
4楼2016-03-23 10:48:59
why36789
木虫 (初入文坛)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 3126
- 帖子: 13
- 在线: 34.2小时
- 虫号: 3153481
- 注册: 2014-04-21
- 性别: GG
- 专业: 半导体微纳机电器件与系统
5楼2016-12-21 10:24:05
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