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guotao019新虫 (著名写手)
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求助大神:N型SiC欧姆接触测试问题已有2人参与
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N外延片上离子注入形成N型和P型4H-SiC,目标浓度为3*10^20 cm-3,深度300nm,箱型分布;做的欧姆接触,用圆形传输线法测试,N型的拟合效果都特别差,得出的比接触值也不对,但P型的拟合的都很好。 求大神告知原因? ps: 退火温度为1000℃/3min RTA,N和P退火温度一样。退火后形貌也不错。 版图:左边圆环内径均为150um,外径步长为10um增大。右边圆环内径均为100um,外径步长为10um增大。 N型.png p型.png 版图.png@yswyx |
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guotao019
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3楼2016-03-10 09:47:26
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我用的环形电极,提取的P型的方块电阻在10K左右。而且N型碳化硅注入后的方块电阻值会在百欧到1K之间,现在水平是做不到几个欧的,应该不是测试问题。我是西电的,北方能做碳化硅离子注入的也就两家吧,一个是北京泰科天润,一个是半导体所。我是在泰科做的,Al最高能注的能量是400KeV貌似。 发自小木虫Android客户端 |
5楼2016-03-10 23:34:35
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16楼2016-03-23 23:53:28
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18楼2016-03-24 00:00:03
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20楼2016-03-24 09:58:04













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