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guotao019新虫 (著名写手)
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求助大神:N型SiC欧姆接触测试问题已有2人参与
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N外延片上离子注入形成N型和P型4H-SiC,目标浓度为3*10^20 cm-3,深度300nm,箱型分布;做的欧姆接触,用圆形传输线法测试,N型的拟合效果都特别差,得出的比接触值也不对,但P型的拟合的都很好。 求大神告知原因? ps: 退火温度为1000℃/3min RTA,N和P退火温度一样。退火后形貌也不错。 版图:左边圆环内径均为150um,外径步长为10um增大。右边圆环内径均为100um,外径步长为10um增大。 N型.png p型.png 版图.png@yswyx |
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无机化学论文润色/翻译怎么收费?
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guotao019
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12楼2016-03-23 23:40:26
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2楼2016-03-09 20:56:16
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3楼2016-03-10 09:47:26
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【答案】应助回帖
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guotao019: 金币+5, ★有帮助 2016-05-06 09:40:58
guotao019: 金币+5, ★有帮助 2016-05-06 09:40:58
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我觉得是因为测试问题,SiC的电子迁移率1000cm2·V-1·s-1,空穴迁移率只有115cm2·V-1·s-1,几乎差了10倍,所以如果掺杂浓度和结深一样,结果方块电阻应该也差了10倍。我用你给的值算了一下,n型的方块电阻大概2Ω,p型的大概18Ω 这个时候两探针和四探针的差别就很明显了,一般探针的接触电阻有几Ω,p型的电阻测出来值肯定都在几十欧,影响不大,还能成线性,n型的值就在几欧,这个时候接触电阻的影响很大了,每次测量接触电阻都可能不同,所以结果就曲里拐弯不在一条线上了。 试试用四探针法测量n型。 还有就是你这个p型的半导体看着阻值都在几百欧,比计算值大了5~10倍左右,感觉结深或者浓度不大够。 PS:问一下你是那个学校的?你们那边做SiC有没有那种做Al注入的高能量注入设备? |
4楼2016-03-10 22:33:39













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