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dubaosheng

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9楼: Originally posted by weq_ever at 2016-03-07 10:06:36
镀不上膜主要有三个原因：
1、靶材没溅射出来，这个跟电源参数有关，如果涉及到反应溅射，还可能是靶材表面形成绝缘层了。
2、溅射出来原子，但没有传输到硅基底上，这可能是气压太高了，或距离太远了
3、传输到 ...

如何判断表面形成绝缘层了，气压太小就没辉光了，靶间距也调试过，负偏压怎么加的？谢了

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呵呵

11楼2016-03-07 12:09:53

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dubaosheng

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10楼: Originally posted by 武汉隐藏人 at 2016-03-07 10:27:58
可能只是氩气的辉光放电，靶材并没有发生溅射

怎么判断没发生溅射呢

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12楼2016-03-07 12:10:35

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11楼: Originally posted by dubaosheng at 2016-03-07 12:09:53
如何判断表面形成绝缘层了，气压太小就没辉光了，靶间距也调试过，负偏压怎么加的？谢了
...

看电源的电流值（最好有之前正常镀膜的参数做对比），电流较小或功率加不到设定的值，就是没有溅射出来。负偏压是加在基片上的，是从基片架引出的一端接入直流电源，可能你的设备没有这个功能。
另外看其他人评论回复，你用的是射频电源。射频电源溅射产额很低的，射频电源大多用来增强辉光放电，一般要辅助其他电源溅射靶材。

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13楼2016-03-07 13:40:46

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