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dubaosheng

金虫 (正式写手)

引用回帖:
9楼: Originally posted by weq_ever at 2016-03-07 10:06:36
镀不上膜主要有三个原因:
1、靶材没溅射出来,这个跟电源参数有关,如果涉及到反应溅射,还可能是靶材表面形成绝缘层了。
2、溅射出来原子,但没有传输到硅基底上,这可能是气压太高了,或距离太远了
3、传输到 ...

如何判断表面形成绝缘层了,气压太小就没辉光了,靶间距也调试过,负偏压怎么加的?谢了

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呵呵
11楼2016-03-07 12:09:53
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dubaosheng

金虫 (正式写手)

引用回帖:
10楼: Originally posted by 武汉隐藏人 at 2016-03-07 10:27:58
可能只是氩气的辉光放电,靶材并没有发生溅射

怎么判断没发生溅射呢

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呵呵
12楼2016-03-07 12:10:35
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weq_ever

木虫 (小有名气)

引用回帖:
11楼: Originally posted by dubaosheng at 2016-03-07 12:09:53
如何判断表面形成绝缘层了,气压太小就没辉光了,靶间距也调试过,负偏压怎么加的?谢了
...

看电源的电流值(最好有之前正常镀膜的参数做对比),电流较小或功率加不到设定的值,就是没有溅射出来。负偏压是加在基片上的,是从基片架引出的一端接入直流电源,可能你的设备没有这个功能。
另外看其他人评论回复,你用的是射频电源。射频电源溅射产额很低的,射频电源大多用来增强辉光放电,一般要辅助其他电源溅射靶材。
13楼2016-03-07 13:40:46
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Friend007

银虫 (知名作家)


引用回帖:
8楼: Originally posted by dubaosheng at 2016-03-07 08:54:45
3-8pa都试过
...

之前做别的实验时 溅射成功过吗,溅射电压是多少

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14楼2016-03-08 07:24:09
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咖啡屋0601

木虫 (著名写手)

我也做磁控溅射,但我做团簇方向的,不做材料。用的是飞行时间质谱。有兴趣互相了解一下吗?

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15楼2016-03-08 07:54:03
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大水杯

木虫 (著名写手)

小虫

是反应溅射的话,靶材表面是不是出现中毒,生成了反应物;溅射功率会不会太高,使粒子轰击能量过高,把衬底表面生成的薄膜轰击下来。

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^V^
16楼2016-03-08 08:10:56
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dubaosheng

金虫 (正式写手)

引用回帖:
14楼: Originally posted by Friend007 at 2016-03-08 07:24:09
之前做别的实验时 溅射成功过吗,溅射电压是多少
...

成功过,就现在做knn不好用了

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呵呵
17楼2016-03-08 08:30:43
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dubaosheng

金虫 (正式写手)

引用回帖:
16楼: Originally posted by 大水杯 at 2016-03-08 08:10:56
是反应溅射的话,靶材表面是不是出现中毒,生成了反应物;溅射功率会不会太高,使粒子轰击能量过高,把衬底表面生成的薄膜轰击下来。

功率太低不起辉光了

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呵呵
18楼2016-03-08 08:31:31
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