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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料物理 » 磁控溅射
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dubaosheng

金虫 (正式写手)
引用回帖:
9楼: Originally posted by weq_ever at 2016-03-07 10:06:36
镀不上膜主要有三个原因：
1、靶材没溅射出来，这个跟电源参数有关，如果涉及到反应溅射，还可能是靶材表面形成绝缘层了。
2、溅射出来原子，但没有传输到硅基底上，这可能是气压太高了，或距离太远了
3、传输到 ...

如何判断表面形成绝缘层了，气压太小就没辉光了，靶间距也调试过，负偏压怎么加的？谢了

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呵呵
11楼2016-03-07 12:09:53
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dubaosheng

金虫 (正式写手)
引用回帖:
10楼: Originally posted by 武汉隐藏人 at 2016-03-07 10:27:58
可能只是氩气的辉光放电，靶材并没有发生溅射

怎么判断没发生溅射呢

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12楼2016-03-07 12:10:35
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weq_ever

木虫 (小有名气)
引用回帖:
11楼: Originally posted by dubaosheng at 2016-03-07 12:09:53
如何判断表面形成绝缘层了，气压太小就没辉光了，靶间距也调试过，负偏压怎么加的？谢了
...

看电源的电流值（最好有之前正常镀膜的参数做对比），电流较小或功率加不到设定的值，就是没有溅射出来。负偏压是加在基片上的，是从基片架引出的一端接入直流电源，可能你的设备没有这个功能。
另外看其他人评论回复，你用的是射频电源。射频电源溅射产额很低的，射频电源大多用来增强辉光放电，一般要辅助其他电源溅射靶材。
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13楼2016-03-07 13:40:46
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Friend007

银虫 (知名作家)
引用回帖:
8楼: Originally posted by dubaosheng at 2016-03-07 08:54:45
3-8pa都试过
...

之前做别的实验时 溅射成功过吗，溅射电压是多少

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14楼2016-03-08 07:24:09
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咖啡屋0601

木虫 (著名写手)
我也做磁控溅射，但我做团簇方向的，不做材料。用的是飞行时间质谱。有兴趣互相了解一下吗？

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15楼2016-03-08 07:54:03
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大水杯

木虫 (著名写手)

小虫
是反应溅射的话，靶材表面是不是出现中毒，生成了反应物；溅射功率会不会太高，使粒子轰击能量过高，把衬底表面生成的薄膜轰击下来。

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^V^
16楼2016-03-08 08:10:56
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dubaosheng

金虫 (正式写手)
引用回帖:
14楼: Originally posted by Friend007 at 2016-03-08 07:24:09
之前做别的实验时 溅射成功过吗，溅射电压是多少
...

成功过，就现在做knn不好用了

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17楼2016-03-08 08:30:43
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dubaosheng

金虫 (正式写手)
引用回帖:
16楼: Originally posted by 大水杯 at 2016-03-08 08:10:56
是反应溅射的话，靶材表面是不是出现中毒，生成了反应物；溅射功率会不会太高，使粒子轰击能量过高，把衬底表面生成的薄膜轰击下来。

功率太低不起辉光了

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18楼2016-03-08 08:31:31
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