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求助 用HF缓冲液刻蚀玻璃 腔体表面很粗糙 应该怎么办 已有2人参与
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| 用HF缓冲液来刻蚀玻璃片（硅片规格），形成固定腔长的腔体，通过做实验，刻蚀160nm深的腔，但是腔体的表面很粗糙，用台阶仪测得的峰谷值超过了30nm，自己也想了想原因，采用的玻璃片含有其他的成分，如Na2O，Al2O3等，会生成不易挥发的产物覆盖在玻璃表面，自己想的解决方法有在玻璃片上镀一层氧化硅进行刻蚀，或者采用高纯度的玻璃片，虫友们有做过类似工艺的，有没有好的建议，谢谢了。 |
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