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求助 用HF缓冲液刻蚀玻璃 腔体表面很粗糙 应该怎么办 已有2人参与
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| 用HF缓冲液来刻蚀玻璃片(硅片规格),形成固定腔长的腔体,通过做实验,刻蚀160nm深的腔,但是腔体的表面很粗糙,用台阶仪测得的峰谷值超过了30nm,自己也想了想原因,采用的玻璃片含有其他的成分,如Na2O,Al2O3等,会生成不易挥发的产物覆盖在玻璃表面,自己想的解决方法有在玻璃片上镀一层氧化硅进行刻蚀,或者采用高纯度的玻璃片,虫友们有做过类似工艺的,有没有好的建议,谢谢了。 |
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