| 查看: 3234 | 回复: 12 | ||
| 【悬赏金币】回答本帖问题，作者1529701999将赠送您 10 个金币 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
1529701999木虫 (正式写手)
|
[求助]
光刻剥离掉电极
|
|
各位万能的虫友们，我想咨询一下，光刻反胶的时候，光刻曝光时间不足会导致剥离的时候掉电极么？我感觉我显影后的电极可以了，但是蒸镀完电极后发现电极都掉了。还是与电极的厚度有关？感谢各位虫友的帮助 微信图片_20180125112230.png |
回复此楼» 猜你喜欢
网传南京林业大学加拿大博士首聘期不合格，自杀
已经有21人回复
-
E06送审了吗？
已经有6人回复
-
或许不关于爱情的
已经有63人回复
-
再谈一作和二作
已经有33人回复
-
12个本子最多让给1a2b
已经有3人回复
-
上海大学2024年秋季博士招生
已经有13人回复
-
韩国成均馆大学 软物质杂化材料研究室 Koo Chong Min 教授课题组 诚招博士生
已经有9人回复
-
函评这一关首先干掉一大半，今年卷上天了
已经有38人回复
-
基金委治打招呼顽疾越治越严重
已经有53人回复
-
南京林业大学老师首聘期考核不过，服药自杀
已经有11人回复
|
这个可以做个对比的实验来验证一下，第一，怀疑是金属和si表面粘附性差，用一个dummy wafer表面不做光阻图形，直接去镀金属，看是不是会peeling，如果peeling，你就要改变金属电极，比如在镍镀之前镀一层钛，这个是硅工艺里面常用的电极的做法；第二，如果怀疑是光阻残留，有几种方法可以考虑，可以加大全曝光flood exposure的能量，让曝光更加充分；可以在显影之后打descum也就是氧等离子体扫底膜或者叫灰华处理打残胶。 发自小木虫Android客户端 |
9楼2018-07-07 10:53:19
