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1529701999

木虫 (正式写手)

[求助] 光刻剥离掉电极

各位万能的虫友们,我想咨询一下,光刻反胶的时候,光刻曝光时间不足会导致剥离的时候掉电极么?我感觉我显影后的电极可以了,但是蒸镀完电极后发现电极都掉了。还是与电极的厚度有关?感谢各位虫友的帮助

光刻剥离掉电极
微信图片_20180125112230.png
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liyangntu

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★
wolfghost: 金币+2, 奖励快速应助~ 2018-01-27 15:09:31
问题里面的流程说的不是很清楚啊。

电极在光刻之前已经就有,光刻之后发现电极剥离?还是光刻之后,在显影区域渡电极,然后发现电极剥落?这是两个不同的状况。

可能性最大的还是有残胶没有去除干净。
2楼2018-01-26 13:24:59
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匿名

用户注销 (初入文坛)


★ ★
wolfghost: 金币+2, 奖励快速应助~ 2018-01-27 15:09:40
本帖仅楼主可见
3楼2018-01-26 16:35:19
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1529701999

木虫 (正式写手)

引用回帖:
3楼: Originally posted by ranqc at 2018-01-26 16:35:19
1.基底材料是什么;  2.蒸镀的是什么金属,因为比如Au就和一些材料接触不好 ,上面需要先镀几个纳米的Cr来增强结合力;  3.使用什么方法剥离的,丙酮?

基底材料是P型硅,镀的是镍铁,用丙酮剥离的,请问您方便留个联系方式交流一下么?镀铬增强粘合力,但是他具有磁性,会影响我的测试
不忘初心,方得始终
4楼2018-01-27 15:00:42
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1529701999

木虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by liyangntu at 2018-01-26 13:24:59
问题里面的流程说的不是很清楚啊。

电极在光刻之前已经就有,光刻之后发现电极剥离?还是光刻之后,在显影区域渡电极,然后发现电极剥落?这是两个不同的状况。

可能性最大的还是有残胶没有去除干净。

我已经用刻蚀机进行表面残胶处理了,但是是不是还是光刻条件不对呢?
不忘初心,方得始终
5楼2018-01-27 15:01:27
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匿名

用户注销 (初入文坛)


本帖仅楼主可见
6楼2018-01-29 11:41:43
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liyangntu

金虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
5楼: Originally posted by 1529701999 at 2018-01-27 15:01:27
我已经用刻蚀机进行表面残胶处理了,但是是不是还是光刻条件不对呢?...

表面残胶处理也不见得去除的干净,况且这个残胶处理也是有很多条件参数可以调节的。

建议在显影之后,用O2的plasma表面去残胶,可以加大一点功率以及用更长一些的时间。
这个残胶去除损失光刻胶厚度大概也就一两百纳米,不影响lift-off。

残胶往往显微镜看不出来,能看出彩虹状反射环的,那种残胶,厚度都是接近微米级别了。而几个纳米的残胶是看不到的。
7楼2018-01-30 15:38:17
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weike658

铜虫 (小有名气)

还要考虑一下NiFe与硅表面的粘附性问题

发自小木虫Android客户端
8楼2018-07-06 06:33:05
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低调谦虚DE

新虫 (初入文坛)

这个可以做个对比的实验来验证一下,第一,怀疑是金属和si表面粘附性差,用一个dummy wafer表面不做光阻图形,直接去镀金属,看是不是会peeling,如果peeling,你就要改变金属电极,比如在镍镀之前镀一层钛,这个是硅工艺里面常用的电极的做法;第二,如果怀疑是光阻残留,有几种方法可以考虑,可以加大全曝光flood exposure的能量,让曝光更加充分;可以在显影之后打descum也就是氧等离子体扫底膜或者叫灰华处理打残胶。

发自小木虫Android客户端
飞了这么久,依然在寻找着方向。
9楼2018-07-07 10:53:19
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