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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 合成表征 » 四硫代钼酸铵CVD生长二硫化钼
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kesy

木虫 (职业作家)
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10楼: Originally posted by Littom at 2016-01-21 22:37:10
氧等离子体是为了使硅片更干净，同时使硅片表面对原子吸附力增强。洗硅片很多时候都会用到这个。
...

会不会形成一些含氧基团在高温下和硫代钼酸铵反应了，我不太了解只是一个个人疑问。
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11楼2016-01-21 22:40:16
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Littom

新虫 (初入文坛)
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9楼: Originally posted by jiayi494462 at 2016-01-21 17:50:54
...你这炉子大管套小管挺有意思的。温度会影响四硫代钼酸铵的分解速度。硫粉的存在是为了提高结晶质量，管中硫的蒸气压对四硫代钼酸铵的分解应该是有减速的作用，文献里的用量是基于他们的实验设备，合适的用量需要 ...

的确，影响因素太多了，谢谢你的回复，我的参数大致是对的，可能需要稍微改变一下温度，降低一下氩气的流速，另外用乙醇溶解硫代钼酸铵可能不太好，在硅片上四硫代钼酸铵容易结晶。今天换了另外一个厂家的硅片做了一次，没有出现白色粉末。可能是硅片的原因，因为我硫粉用的0.5克比较多，我昨天用的硅片可能对硫的吸附太强，造成硅片上有很多硫结晶，把二硫化钼掩盖了。管子里面绝对不存在氧，应该不会是氧化钼，就算有也应该是把样品从炉子里拿出来后暴露在空气中氧化的。

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12楼2016-01-21 22:56:09
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Littom

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
11楼: Originally posted by kesy at 2016-01-21 22:40:16
会不会形成一些含氧基团在高温下和硫代钼酸铵反应了，我不太了解只是一个个人疑问。...

反应物都不含氧，升温前炉子抽真空，用氩气洗气30min，管子里面应该没有氧。唯一可能有氧的是乙醇，旋涂以后可能在硅片上有乙醇残留，所以旋涂以后需要低温烘干，这一点我需要注意。就算有乙醇，但是要让羟基共价键断裂900度远远不够吧，而且乙醇不会残留这么多，在洗气的时候应该大部分都挥发了。

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13楼2016-01-21 23:13:42
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kesy

木虫 (职业作家)
引用回帖:
13楼: Originally posted by Littom at 2016-01-21 23:13:42
反应物都不含氧，升温前炉子抽真空，用氩气洗气30min，管子里面应该没有氧。唯一可能有氧的是乙醇，旋涂以后可能在硅片上有乙醇残留，所以旋涂以后需要低温烘干，这一点我需要注意。就算有乙醇，但是要让羟基共价键 ...

我是说氧等离子处理会不会在Si表面形成含氧基团。   现在的产物先做个XRD看下是什么东西不就可以很好的帮助发现问题了么。
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14楼2016-01-22 01:24:51
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Littom

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
14楼: Originally posted by kesy at 2016-01-22 01:24:51
我是说氧等离子处理会不会在Si表面形成含氧基团。   现在的产物先做个XRD看下是什么东西不就可以很好的帮助发现问题了么。...

有可能是这个原因。可以先确定这个粉末到底是什么，然后再进一步分析。

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15楼2016-01-22 10:51:23
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杨立帆

新虫 (初入文坛)
你好，请问一下，四硫代钼酸铵应该如何储存呢？
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16楼2017-03-08 18:18:33
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文静书生

新虫 (小有名气)
您好，请问方便的话能给我讲讲您的旋涂条件吗，目前我也在旋涂，但是都不是特别均匀。
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17楼2022-04-20 09:38:42
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