10楼: Originally posted by Littom at 2016-01-21 22:37:10
氧等离子体是为了使硅片更干净，同时使硅片表面对原子吸附力增强。洗硅片很多时候都会用到这个。
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9楼: Originally posted by jiayi494462 at 2016-01-21 17:50:54
...你这炉子大管套小管挺有意思的。温度会影响四硫代钼酸铵的分解速度。硫粉的存在是为了提高结晶质量，管中硫的蒸气压对四硫代钼酸铵的分解应该是有减速的作用，文献里的用量是基于他们的实验设备，合适的用量需要 ...

11楼: Originally posted by kesy at 2016-01-21 22:40:16
会不会形成一些含氧基团在高温下和硫代钼酸铵反应了，我不太了解只是一个个人疑问。...

13楼: Originally posted by Littom at 2016-01-21 23:13:42
反应物都不含氧，升温前炉子抽真空，用氩气洗气30min，管子里面应该没有氧。唯一可能有氧的是乙醇，旋涂以后可能在硅片上有乙醇残留，所以旋涂以后需要低温烘干，这一点我需要注意。就算有乙醇，但是要让羟基共价键 ...

14楼: Originally posted by kesy at 2016-01-22 01:24:51
我是说氧等离子处理会不会在Si表面形成含氧基团。   现在的产物先做个XRD看下是什么东西不就可以很好的帮助发现问题了么。...