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NiO薄膜做霍尔效应测试，为形成欧姆接触，请问大家一般用什么方法
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| 我们尝试用NiO靶溅射到玻璃基底上形成薄膜，厚度在100nm，想做霍尔效应测试。我们以前用磁控溅射（类似SEM样品的处理办法）处理了四个点，但是发现现在测不出数据。测试老师说我们可能形成的是模特肖特基接触，没有达到欧姆接触。所以测不出来。所以想问下各位大神，有经验的一般用的是什么处理方法形成欧姆接触。感谢！ |
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