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NiO薄膜做霍尔效应测试,为形成欧姆接触,请问大家一般用什么方法
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| 我们尝试用NiO靶溅射到玻璃基底上形成薄膜,厚度在100nm,想做霍尔效应测试。我们以前用磁控溅射(类似SEM样品的处理办法)处理了四个点,但是发现现在测不出数据。测试老师说我们可能形成的是模特肖特基接触,没有达到欧姆接触。所以测不出来。所以想问下各位大神,有经验的一般用的是什么处理方法形成欧姆接触。感谢! |
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