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TiO2-SiO2 多层膜反射膜-近紫外吸收问题
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各位前辈/专业人士： 你们好。小虫我最近在研究镀膜的问题，主要是想在石英、硅片基底上生长多层的高反射膜。计划选择TiO2和SiO2材料对做多层介质高反膜。 （1）如果选择TiO2和SiO2两种材料作为材料对，设计一个中心波长为400nm的15层的高反射膜系，膜系结构为S[H(LH)&7]A，每层TiO2和SiO2厚度分别为42.27nm，71.52nm。采用蒸发镀膜或是磁控溅射方式制备多层膜，那么这个多层反射膜会不会存在严重的吸收问题？吸收问题会导致实际膜系的反射率与设计的反射率差别很大呢？ （2）需要说明本身这种膜系不是用在激光领域的，如果存在吸收，那么会有反射率大的影响吗？ （3）如果通过波段展宽的方式，将中心波长为400nm和530nm的两个多层膜系结合起来，总共31层，那么这种膜系在蒸发或是溅射镀膜方式下技术有没有什么问题呢？ （4）如果这种材料对不合适，那么选择什么材料对更合适呢？ 这个问题对我比较重要，鉴于自己没有过什么镀膜经验，请各位不吝指点。 谢谢！  多层膜.png |
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lg2880
铁杆木虫 (正式写手)
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