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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

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感谢参与,应助指数 +1
audrey380104: 金币+50, ★★★很有帮助 2015-12-26 06:08:16
引用回帖:
4楼: Originally posted by audrey380104 at 2015-12-24 11:31:37
您好,谢谢回复!我可能需要做一系列这样的沟道,所以在2:1~10:1之间都是可能的,甚至有可能还会超出,刻蚀设备可能也不是处于很新的状态。您觉得摸索这个一系列的工艺难度大吗...

2:1就已经很难了,10:1不可能。侧刻会把你的结构吃光的。
RIE肯定不行,ICP或者DRIE也很难。
你这个设计高宽比是硬伤。而且垂直度也是没办法做到的一个陷阱。
至于光刻,别想了,只有EBL适合。麻烦的是,找一款合适的光刻胶会很麻烦,因为你这个要干刻,要能抗得住刻蚀,最好是HSQ,但这个胶用起来相当麻烦。你要自己做的话,光摸条件和准备材料就会疯的,最好找成熟的实验室做。
11楼2015-12-25 13:41:23
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xiangx123

禁虫 (著名写手)

本帖内容被屏蔽

12楼2015-12-25 14:24:31
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audrey380104

银虫 (小有名气)

引用回帖:
11楼: Originally posted by yswyx at 2015-12-25 13:41:23
2:1就已经很难了,10:1不可能。侧刻会把你的结构吃光的。
RIE肯定不行,ICP或者DRIE也很难。
你这个设计高宽比是硬伤。而且垂直度也是没办法做到的一个陷阱。
至于光刻,别想了,只有EBL适合。麻烦的是,找一 ...

崩溃。。。还没做就被你说疯了。没办法,最后可能还是得自己摸索。你觉得用PMMA可行吗
贵有恒,何必三更眠五更起;最无益,只怕一日曝十日寒。
13楼2015-12-26 06:07:52
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reninhat

铁杆木虫 (正式写手)

还是用FIB慢慢扣吧
14楼2015-12-26 08:16:40
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superceng

至尊木虫 (文坛精英)

無雙の猛將

激光刻…要么MEMS…就是精度问题…

发自小木虫IOS客户端
说自己的,让别人走路去吧!
15楼2015-12-26 10:37:52
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xiangan315

至尊木虫 (文坛精英)

目前的EBL做出的结构满足不了楼主的要求。像我之前用我们实验室的raith 150 two都困难,单纯的曝光25纳米周期结构已经是很多EBL设备的极限,如果还要刻蚀这么高深宽比,还是另外想起他办法吧,EBL+刻蚀不现实
16楼2015-12-26 16:24:33
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诡刺

铜虫 (职业作家)

我总以为,有过雨果的博爱,萧伯纳的智慧,罗曼·罗兰又把什么是美说得那么清楚,人无论如何也不该再是愚昧的了。
17楼2015-12-26 16:45:26
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audrey380104

银虫 (小有名气)

引用回帖:
16楼: Originally posted by xiangan315 at 2015-12-26 16:24:33
目前的EBL做出的结构满足不了楼主的要求。像我之前用我们实验室的raith 150 two都困难,单纯的曝光25纳米周期结构已经是很多EBL设备的极限,如果还要刻蚀这么高深宽比,还是另外想起他办法吧,EBL+刻蚀不现实

良药苦口啊
贵有恒,何必三更眠五更起;最无益,只怕一日曝十日寒。
18楼2015-12-27 08:05:52
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


引用回帖:
13楼: Originally posted by audrey380104 at 2015-12-26 06:07:52
崩溃。。。还没做就被你说疯了。没办法,最后可能还是得自己摸索。你觉得用PMMA可行吗...

不可行,PMMA是不能抗刻蚀的,高宽比大的结构肯定实现不了。
25nm周期结构对于HSQ胶来说,好的电子束光刻都可以达到,关键看谁给你做。
19楼2015-12-28 12:31:31
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audrey380104

银虫 (小有名气)

引用回帖:
16楼: Originally posted by xiangan315 at 2015-12-26 16:24:33
目前的EBL做出的结构满足不了楼主的要求。像我之前用我们实验室的raith 150 two都困难,单纯的曝光25纳米周期结构已经是很多EBL设备的极限,如果还要刻蚀这么高深宽比,还是另外想起他办法吧,EBL+刻蚀不现实

好的,谢谢,没办法,工作就是这个
贵有恒,何必三更眠五更起;最无益,只怕一日曝十日寒。
20楼2015-12-29 22:42:50
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