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木有一只

新虫 (初入文坛)

[求助] 什么设备长二氧化硅质量好且厚度可控(超材料介质层) 已有2人参与

大家好~
我想要在金上长二氧化硅,需要致密性好一些,厚需要20㎚,长出来差别在1-2nm以内,请问什么设备比较适合?
有电子束蒸发:100℃,老师说厚度可控,均匀,但是质量不太好。
PECVD:致密,均匀性不如电子束蒸发,厚度也难控制。
还有就是ICPCVD:这个温度也低,长的估计也不好。厚度比PECVD可调一些。
二氧化硅是用作超材料的介质层。

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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franckchen

银虫 (小有名气)


【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
ALD 原子层沉积,精度高,成膜均匀。
10楼2015-12-17 09:45:16
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niusj

至尊木虫 (著名写手)

我就是饺子,我为自己代言!!

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
mocvd试过没,不过水热反应釜我用过,可以做到纳米级
Everyone is the architect of his own fortune.
2楼2015-12-15 17:57:16
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木有一只

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by niusj at 2015-12-15 17:57:16
mocvd试过没,不过水热反应釜我用过,可以做到纳米级

没有这个设备……

发自小木虫Android客户端
3楼2015-12-15 18:56:02
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niusj

至尊木虫 (著名写手)

我就是饺子,我为自己代言!!

引用回帖:
3楼: Originally posted by 木有一只 at 2015-12-15 18:56:02
没有这个设备……
...

额,那我就不清楚了
Everyone is the architect of his own fortune.
4楼2015-12-15 19:39:54
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