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chankityi

木虫 (正式写手)

[求助] 关于XRD测试图谱的问题 已有4人参与

请教:大家好,最近在单晶硅片表面长了非晶碳膜,改变实验条件使其存在一定结晶性,但是XRD图谱测试发现在2θ=66°左右总是存在一段强度直线上升的部分,不知道是什么原因,也不知道是不是对应一个峰。另外在60°刚出头的地方有一个比较平滑的峰,上面同时存在一个尖峰,也不是很理解为什么会出现这种现象。哪位虫友能解释一下原因?谢谢~好人一生平安

关于XRD测试图谱的问题
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关于XRD测试图谱的问题-1
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碧水云天

至尊木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
楼主可以尝试下短区间内窄扫,或者最简单的方法,把Y轴换成log坐标。至少会好看些。
10楼2015-12-04 15:00:11
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bmajw

铁杆木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
看看是不是碳膜的峰,你说可能会有结晶。另外可以看看是不是硅片的(不知道你是不是带硅片一起测),还有就是测试用的载片材料的峰,因为之前有同学做测试就一个峰,分析后是测试时用的载片材料的峰。

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世间无非过云楼,何事值得你犯愁?荣辱得失算什么,此生只向喵低头。
2楼2015-12-03 13:53:58
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caoxiafei

专家顾问 (著名写手)

研发工程师-Topcon/HJT电池

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
建议去做 掠入射XRD
3楼2015-12-03 18:11:46
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chankityi

木虫 (正式写手)

引用回帖:
3楼: Originally posted by caoxiafei at 2015-12-03 18:11:46
建议去做 掠入射XRD

请问掠入射xrd有什么优势呢?谢谢

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4楼2015-12-03 19:21:35
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