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chankityi木虫 (正式写手)
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[求助]
关于XRD测试图谱的问题已有4人参与
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请教：大家好，最近在单晶硅片表面长了非晶碳膜，改变实验条件使其存在一定结晶性，但是XRD图谱测试发现在2θ=66°左右总是存在一段强度直线上升的部分，不知道是什么原因，也不知道是不是对应一个峰。另外在60°刚出头的地方有一个比较平滑的峰，上面同时存在一个尖峰，也不是很理解为什么会出现这种现象。哪位虫友能解释一下原因？谢谢~好人一生平安 Image 1.jpg  Image 3.jpg |
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