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如果用磁控溅射过载功率提高溅射速率，会对溅射源或者溅射台有什么影响么？ 已有1人参与
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如果磁控溅射金属，提高功率，会有什么危害，应该从哪方面考虑？ 1. 设备硬件方面，可能会有因功率过大引起的靶材熔掉，这个会对溅射源和磁场什么的有影响吗？ 2. 从成膜质量上看，膜质会致密，反射率会高，膜层与基片的接触会变好，其他会有什么影响么？尤其是变坏的参数。  |
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