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如果用磁控溅射过载功率提高溅射速率,会对溅射源或者溅射台有什么影响么? 已有1人参与
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如果磁控溅射金属,提高功率,会有什么危害,应该从哪方面考虑? 1. 设备硬件方面,可能会有因功率过大引起的靶材熔掉,这个会对溅射源和磁场什么的有影响吗? 2. 从成膜质量上看,膜质会致密,反射率会高,膜层与基片的接触会变好,其他会有什么影响么?尤其是变坏的参数。 ![]() ![]() |
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2楼2015-12-04 21:10:20











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