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银虫 (初入文坛)

[求助] 如果用磁控溅射过载功率提高溅射速率,会对溅射源或者溅射台有什么影响么? 已有1人参与

如果磁控溅射金属,提高功率,会有什么危害,应该从哪方面考虑?
1. 设备硬件方面,可能会有因功率过大引起的靶材熔掉,这个会对溅射源和磁场什么的有影响吗?
2. 从成膜质量上看,膜质会致密,反射率会高,膜层与基片的接触会变好,其他会有什么影响么?尤其是变坏的参数。
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caiyazhi

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

单纯提高靶功率对靶体设计有要求,需要冷却到位,功率越大溅射产能越大,冷却不好对磁场有影响,在同等偏压前提下,提高溅射功率会增加涂层的应力,一定条件下会改变薄膜生长方向,不是单纯的越大越好,会存在一个峰值,之后就是下降。
浮躁的社会更需要冷静
2楼2015-12-04 21:10:20
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