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Tao9186银虫 (初入文坛)
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CVD沉积温度 已有2人参与
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| CVD中一般说的沉积温度是指气体温度还是基片温度? |
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基金正文30页指的是报告正文还是整个申请书
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cherry1226
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pecvd一般温度比较低,有些人会用lift-off来做氮化硅薄膜的图形化,所以对温度要求就很可以苛刻,所以累积温度一般不会超过110℃,当然温度越高生长速度越快,薄膜也越致密 发自小木虫IOS客户端 |
8楼2021-02-13 02:49:41
guxue
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2楼2015-11-17 10:20:18
yousyunnsei
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Tao9186
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4楼2015-11-17 19:17:19













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