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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » SU8胶光刻后通道尺度变大了，求解
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工工工龚

新虫 (初入文坛)

[求助] SU8胶光刻后通道尺度变大了，求解 已有2人参与

我将圆形硅片上旋涂了SU8胶，覆盖菲林掩膜在光刻机上进行光刻，刻出来的通道结构平滑，但是通道尺寸却变大了，有哪位虫友知道原因的，真心求解

掩膜中的对应结构尺寸分别位550微米和280微米，光刻到掩膜上变成了607微米和343微米

SU8胶光刻后通道尺度变大了，求解
捕获.JPG


SU8胶光刻后通道尺度变大了，求解-1
1.JPG
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1楼 2015-11-12 19:20:15
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工工工龚

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by zhanjiang at 2015-11-12 21:03:42
曝光参数不对吧。过曝了，或者是间隙设的不对。

曝光机自动对平的，应该不是间隙问题。而且曝光的图像边缘光滑完整，也不像过曝的样子吧？

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3楼2015-11-12 21:20:56
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zhanjiang

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
曝光参数不对吧。过曝了，或者是间隙设的不对。
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2楼2015-11-12 21:03:42
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dorrnm

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
显影时间过长会产生你说的这种现象

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» 本帖已获得的红花（最新10朵）

工工工龚
4楼2015-11-13 08:47:49
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zhanjiang

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

引用回帖:
3楼: Originally posted by 工工工龚 at 2015-11-12 21:20:56
曝光机自动对平的，应该不是间隙问题。而且曝光的图像边缘光滑完整，也不像过曝的样子吧？
...

我是说那个gap设的较大，或者曝光时间不对。边缘平整也有可能是过曝导致的呀。还有就是菲林版本身的精度就比较低。

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5楼2015-11-13 14:23:34
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