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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳器件 » 使用射频磁控溅射方法在Ar+N2氛围下溅射La2O3靶，最后通过XPS没有检测到N峰。
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忘却の记忆

新虫 (小有名气)

[求助] 使用射频磁控溅射方法在Ar+N2氛围下溅射La2O3靶，最后通过XPS没有检测到N峰。 已有1人参与

如标题所示，想要溅射获得LaOxNy层，所以在Ar：N2=24：12的氛围下射频溅射的La2O3靶，可最后通过xps分析的时候却没有溅射到N峰，La峰很明显，膜肯定是镀上去了的~求大神们指点
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薄膜制备与特性

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1楼 2015-11-03 09:53:53
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
不就说明楼主的本意是要进行反应性溅射镀膜的，但最后金属颗粒在飞行过程中并未和氮气发生反应，导致薄膜中缺氮原子。

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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2楼2015-11-03 19:39:36
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