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使用射频磁控溅射方法在Ar+N2氛围下溅射La2O3靶，最后通过XPS没有检测到N峰。 已有1人参与
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| 如标题所示，想要溅射获得LaOxNy层，所以在Ar：N2=24：12的氛围下射频溅射的La2O3靶，可最后通过xps分析的时候却没有溅射到N峰，La峰很明显，膜肯定是镀上去了的~求大神们指点 |
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 薄膜制备与特性 |
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