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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 无机非金属 » 交流探讨 » 【求助】急需知道常用导电衬底Si/SiO2/TiO2/Pt的制备工艺
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alexissp

金虫 (正式写手)

干活的

[交流] 【求助】急需知道常用导电衬底Si/SiO2/TiO2/Pt的制备工艺

求助：急需知道常用导电衬底Si/SiO2/TiO2/Pt的制备工艺：譬如说（1）单晶Si上制备SiO2层的温度和时间，形成SiO2的厚度多少合适？（2）磁控溅射TiO2层需要衬底的温度，需要TiO2层的厚度通常为多少？SiO2层和TiO2层共烧温度和时间？（3）最后Pt层的厚度和烧结温度？谢谢！

[ Last edited by NJUT_tiger on 2008-9-9 at 15:53 ]
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简单充实
1楼 2008-09-08 13:51:42
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大笨猪和聪明羊

荣誉版主 (职业作家)
★
alexissp(金币+1,VIP+0):谢谢，想要得到更详细的参数
一般SiO2厚度在500纳米以内，Pt厚度在160纳米左右（每10纳米60块钱）。

至于制备时的具体参数，你查查文献吧。
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大步向前
2楼2008-09-08 21:27:03
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alexissp

金虫 (正式写手)

干活的
SiO2的厚度有没有下限？还有TiO2层一般多厚？谢谢
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简单充实
3楼2008-09-09 13:50:09
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