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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 半导体 » 关于霍尔测试的问题
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shuangyeu5

铁杆木虫 (著名写手)

[求助] 关于霍尔测试的问题 已有1人参与

关于半导体薄膜的霍尔测试，是在试验片一面上焊上4个电极，那么测试的厚度是如何界定的？

如果使用分子束外延的方法生长薄膜材料，而衬底不是绝缘的，那么测试的是整个片的Hall特性还是只有薄膜的？（薄膜载流子浓度比衬底高3个量级）
类似的情况，如果生长了pn结，那么测试的是最上面一层还是整个结的平均值？
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1楼 2015-08-23 10:10:11
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何章HZ

新虫 (初入文坛)
是样品整体的，Hall effect的原理是，在那4个电极上加或测 电压电流，如果薄膜和衬底之间不是绝缘的，衬底材料一定会影响或受到这些电压电流影响。得到的结果，也很难把衬底影响去掉，依赖于衬底和界面特性。
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3楼2015-09-22 16:25:06
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sjl1218

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
shuangyeu5: 金币+10, ★有帮助 2015-09-13 20:58:18
1.霍尔测试与厚度没有太大关系，不给厚度得出的是材料的方块电阻和面浓度，若需要体电阻和体浓度，自己将厚度输入计算就行。霍尔测不出厚度来。
2.是整个片子的综合效果。对于非半绝缘和NP层都是整个片子的综合效果。
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2楼2015-08-25 16:01:42
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