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磁控溅射基片温度测定与控制 已有4人参与
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用磁控溅射在石英或者SiC基片上镀金属厚膜，想尽可能地把膜镀厚，但镀厚了 经常膜裂或者卷曲，怀疑是镀膜时间太久（7h以上），热应力太大的原因。 所以想咨询一下 1.基片温度测定与控制一般都有什么方法？ 2.样品台水冷的方法试过了，膜一镀上去就要起皱（基片温度太低的原因？） 3.红外测温度话在这么低的温度范围内不知靠不靠谱？ 谢谢！ |
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 薄膜制备与特性 | 薄膜材料和器件制备 |
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