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FLYFWY

木虫 (小有名气)

[求助] 磁控溅射基片温度测定与控制 已有4人参与

用磁控溅射在石英或者SiC基片上镀金属厚膜,想尽可能地把膜镀厚,但镀厚了
经常膜裂或者卷曲,怀疑是镀膜时间太久(7h以上),热应力太大的原因。
所以想咨询一下
1.基片温度测定与控制一般都有什么方法?
2.样品台水冷的方法试过了,膜一镀上去就要起皱(基片温度太低的原因?)
3.红外测温度话在这么低的温度范围内不知靠不靠谱?
谢谢!
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FLYFWY

木虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by 1-maker at 2015-08-23 13:56:49
你那个7h能镀多厚啊,可以适当减小功率

大概10~20um吧,现在尝试减小功率,增加镀膜时间,看镀出来的膜应力会不会小一些
7楼2015-08-29 20:03:34
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1-maker

木虫 (小有名气)

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你那个7h能镀多厚啊,可以适当减小功率
3楼2015-08-23 13:56:49
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gxytju2008

专家顾问 (文坛精英)

【答案】应助回帖

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FLYFWY: 金币+15, ★★★很有帮助 2015-09-07 20:16:26
不适合吧。。磁控溅射本来也不是很合适做非常厚的。。方法本身的局限,可以考虑其他办法啊
4楼2015-08-23 16:13:28
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纳米材料753

木虫之王 (文学泰斗)

光岳之巅

【答案】应助回帖

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FLYFWY: 金币+15, ★★★很有帮助 2015-09-07 20:16:31
很难实现的,我原来试过,磁控溅射镀的膜质量相对电子束或者MOCVD等方法差很多,各种缺陷等会很多,在一定厚度时还能把应力释放出来,厚了就没办法克服了
进取……永无止境!
5楼2015-08-23 16:43:29
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