7楼: Originally posted by FLYFWY at 2015-08-29 20:03:34
大概10~20um吧，现在尝试减小功率，增加镀膜时间，看镀出来的膜应力会不会小一些...

9楼: Originally posted by FLYFWY at 2015-08-29 20:10:51
谢谢您的建议！
缺陷多了内应力就增加，这个只能靠工艺调整了。
我现在的想法就是尽量低温镀膜，降低热应力，从而降低总的应力：
1.镀半小时，停机充N2降温，尽量在低的温度生长
2.样品台加一个温水循环，让基 ...

13楼: Originally posted by kafeitu at 2017-01-12 11:05:13
请问这种方法管用吗...

14楼: Originally posted by FLYFWY at 2017-01-13 07:40:12
加水冷台会使膜起皱，不知是不是温度没设置好。通N2没有太大的用。
你也需要把膜长的很厚？
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15楼: Originally posted by kafeitu at 2017-01-13 23:28:40
不是很厚，50-300nm，但是也会裂
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16楼: Originally posted by FLYFWY at 2017-01-14 08:30:26
一看膜厚，二看膜与基片的匹配性，不匹配的话很难镀厚，三看膜的质量，缺陷太多，内应力太大的话容易裂
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